真空鍍膜機(jī)采用箱式結(jié)構(gòu)，抽氣系統(tǒng)后臵，便于拆卸和維修。整機(jī)表面平整，便于清潔，適合凈化間安裝。蒸發(fā)室全部采用不銹鋼制造，外有可通冷、熱水的護(hù)罩，可對壁進(jìn)行加熱(熱水器選配)或冷卻。本設(shè)備適用于鍍制各種多層光學(xué)薄膜和電學(xué)膜，是有關(guān)工廠、研究院和大專院校進(jìn)行生產(chǎn)和科研的理想設(shè)備。
開機(jī)準(zhǔn)備階段：
先開啟水泵、氣源，確認(rèn)冷卻水、氣壓供應(yīng)正常，再打開設(shè)備總電源。
開啟維持泵和真空計(jì)電源，將真空計(jì)調(diào)至V1檔位，等待約5分鐘，直到真空計(jì)數(shù)值降到10以下，再進(jìn)行下一步。
安裝待加工工件：確認(rèn)所有控制開關(guān)處于“關(guān)”位置，拉出低壓閥，打開充氣閥，無氣流聲后升起鐘罩；清潔腔體，將基片、靶材安裝固定好，檢查無誤后落下鐘罩，關(guān)閉真空門。
抽真空階段：
開啟冷卻水，啟動擴(kuò)散泵進(jìn)行預(yù)熱，預(yù)熱時(shí)間約40分鐘。
啟動機(jī)械泵開始預(yù)抽真空，將低壓旋鈕轉(zhuǎn)至2區(qū)段測量位，觀察低真空表，當(dāng)指針移動至約6.7-7Pa時(shí)，打開高壓閥。
若使用渦輪分子泵機(jī)型，預(yù)抽至真空度小于2Pa后，切換真空計(jì)至V2檔位，等待分子泵讀數(shù)到250以上，關(guān)閉預(yù)抽，打開前級閥和高真空閥繼續(xù)抽真空。
持續(xù)抽真空直到真空度達(dá)到工藝要求：普通蒸發(fā)鍍膜需達(dá)到0.1Pa以下，電子槍鍍膜需要達(dá)到2×10^-3Pa以下才可開啟電子槍電源。
鍍膜操作階段：
確認(rèn)真空度達(dá)標(biāo)后，根據(jù)鍍膜工藝調(diào)整參數(shù)：蒸發(fā)鍍膜需逐步調(diào)升加熱電流，觀察靶材加熱狀態(tài)；磁控濺射需調(diào)整功率、氣體流量等參數(shù)。
以常見的鋁絲蒸鍍?yōu)槔寒?dāng)鎢螺旋加熱子變?yōu)辄S橙色、鋁絲開始熔化時(shí)，移開擋板開始蒸發(fā)；鋁絲完全蒸發(fā)后，將擋板復(fù)位，調(diào)回調(diào)壓器至零位，單次蒸鍍完成。
鍍膜過程中隨時(shí)監(jiān)測真空度、溫度、膜厚等參數(shù)，穩(wěn)定后保持工藝參數(shù)直至鍍膜達(dá)到要求厚度。
關(guān)機(jī)收尾階段：
鍍膜完成后，按順序關(guān)閉設(shè)備：先關(guān)閉靶電源、電離真空計(jì)、高壓閥，再依次關(guān)閉擴(kuò)散泵、機(jī)械泵、維持泵。
拉出低壓閥，向鐘罩充氣，充氣完成后升起鐘罩，取出加工完成的工件。
待擴(kuò)散泵完全冷卻后，關(guān)閉冷卻水、總電源，清理設(shè)備腔體，做好使用記錄。若使用分子泵，需等待分子泵頻率降為0后再執(zhí)行關(guān)機(jī)操作。
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